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<자막 원문>

인터뷰 진행: 한주엽 대표

출연: 한양대학교 안진호 교수

-오늘 안진호 교수님 모셨습니다. 교수님 안녕하세요.

“안녕하십니까.”

-오늘 평창에 제가 나와 있는데 오늘 행사가 하나 있었죠?

“네. EUV-IUCC(극자외선노광기술산학협력센터) 회원사 워크숍도 있었고요. 사실은 어제 그제는 차세대 리소그래피 학술 대회도 있었고 지금 이 자리에서는 ASML에서 주최하는 ‘테크톡(TechTalk)’이라는 행사가 있어서 EUV와 관련된 국내 모든 행사가 평창에서 열렸습니다.”

-학회가 열렸고 여러 가지 ASML에서 주최하는 테크톡 행사도 열렸고 오늘 제가 여기 와서 교수님과 이런 영상을 찍는 것은 저희가 또 12월 22일에 한양대 EUV-IUCC와 온라인 오프라인 공동으로 콘퍼런스를 하지 않습니까? 그거에 대해서 가볍게 홍보도 좀 드리면서 영상 보시는 분들이 EUV와 관련된 뭐랄까요? 이제 막 시작하는 단계의 기술 산업이므로 다양한 성장 가능성을 가진 기업들이 있잖아요. 그런 기업들 짤막하게 한번 짚어보고 싶어서 모셨습니다. 관련 기업들은 사실 EUV 기술을 활용해서 칩 만드는 회사들을 일단 논외로 하고 EUV 스캐너 만드는 ASML은 워낙 큰 회사고 하니까 그쪽도 좀 논외로 하고 그거 말고 EUV 쪽 시장에 진입을 노리는 국내에 여러 기업이 있지 않습니까?

“네. 그렇습니다.”

-대표적인 곳들이 어디가 있을까요?

“아마 여러분들이 이미 알고 계실 거 같은데 이솔, 에프에스티, 에스앤에스텍. 이런 회사들은 이미 액티비티가 전 세계적으로 주로 알려져 있고요. 저희 IUCC의 회원사가 26개 회사 있는데 거기에 포함된 다수의 회사가 새로운 신사업 분야로서 지금 개발하고 있는 것으로 알고 있습니다. 하지만 개발 중이라서 아마 퍼블릭하게 많이 발표는 안 하는 거 같아요. 그래서 제가 말씀을 드린다면 대표적인 3개 회사, 그리고 그 3개 회사와 경쟁 관계에 있는 해외 그런 기업의 액티비티를 잠깐 말씀드릴 수 있지 않을까? 생각이 듭니다.”

-에스앤에스텍하고 에프에스티는 EUV 펠리클 쪽의 어떤.

“맞습니다. 경쟁자라면 경쟁자고 서로 다른 접근 방법으로 연구개발, 제품개발을 하고 있습니다. 엊그제 차세대 리소그래피 학술 대회에서 두 회사가 다 발표하는 걸 제가 듣고 되게 고무적인 느낌을 받았는데요.”

-어떤 내용이 있습니까?

“우선 에프에스티는 EUV에 필요한 인프라 설비들을 개발해서 지금 공급할 수 있는 그런 단계까지 와 있고요.”

-마스크 위에 펠리클 올리고 내리는 그런 장비인 거죠?

“마운팅 디마운팅. EUV 펠리클은 마스크에다가 마운팅했다가 생명이 다 되면 이거를 떼버리고 또 새로운 거를 마운팅해야 하는데 이제까지는 오토매틱 장비가 없었어요.”

-그러면 사람이 다 하는.

“사람이 반자동으로 했죠. 왜냐면 수요가 별로 없었기 때문에. 그런데 자동화를 해달라는 요구가 공식적으로 에프에스티에 가는 거로 제가 알고 있습니다. ASML에서. 그래서 그걸 독자적으로 개발했고요. 또 동시에 펠리클에 이물질이 있는가를 검사해야 하는데 앞면과 뒷면. 면이 두 개가 있잖아요. 그거까지 구분할 수 있는 펠리클 인스펙션(Pellicle Inspection) 설비.”

-그것도 에프에스티가?

“에프에스티에서 하고 파드라고 해서 마스크를 보관하는 박스가 있습니다. 이중 박스인데 그것도 사실은 대단한 비즈니스기도 하고 노하우가 있는 거에요. 근데 그 파드도 사실 소모품이긴 하지만, 한 번 쓰고 버리는 건 아니거든요. 걔를 또 클리닝해야 하는 그런 요구가 있어요.”

-걔도 먼지가 붙으면 안 되고 하니까.

“그렇죠. 그래서 파드를 클리닝할 수 있는 그런 설비 이런 것들이 EUV 마스크와 펠리클과 관련된 인프라 설비를 라인업해서 개발된 그런 상황입니다.”

-펠리클로 올리고 내리고 하는 거, 그리고 펠리클 보관하는 파드를 세정하는 장비, 그리고 인스펙션하는 장비.

“네. 그렇습니다. 물론 에프에스티는 실리콘카바이드(SiC, 탄화규소) 소재로 펠리클을 개발하기 시작했지만, 그 외에도 차세대. 그니까 EUV 파워가 점점 더 증가하니까. 잠깐 말씀드리면 최근 어젯밤에 들은 얘기로는 ASML에서 개발한 광원의 밝기는 점점 더 파워를 증가시켜서 하고 있는데 450W, 500W 정도 올라갔다고 합니다. 그니까 처음 몇 년 전만 해도 125W 이 수준이었거든요. 450W, 500W까지 왔으니까 그게 사실은 펠리클에 큰 모드를 주는 거죠. 막 뜨겁게 달궈지는. 그래서 그런 하이파워 광원에 대응할 수 있는 그런 차세대 펠리클 소재도 지금 개발하고 있는 거로 제가 알고 있습니다.”

-에프에스티가요?

“에프에스티가요.”

-상용화나 이런 소식에 관한 얘기는 지금 논할 단계는 아닌 거죠?

“네. 제가 또 조심스럽습니다. 알아도 제가 말씀은 못 드리고요.”

-에스앤에스텍, 에프에스티. 이솔이라는 회사도 에프에스티에.

“에프에스티와 관련 있는 회사지만, 거기 맨파워는 사실 대부분 이솔의 인력이 아니라 전직 삼성전자에 있었던 전문가들이 나와서 하고 있습니다.”

-거기는 어떤 장비들을 하고 있습니까?

“이솔은 검사 장비를 처음으로 시작했고 그 이름은 S렘(SREM)이라고 불렀었죠. 근데 그 컨셉이 뭐냐면 모듈 형태로 만들어서 어차피 검사 장비나 아까 말씀드렸던 PR(photoresist) 노광하는 테스트 장비나 하여튼 EUV 광원이 필요한 용도는 되게 여러 가지 설비들이 있어요. 그래서 그거를 모듈 형태로 만들자. 광원부가 있고 옵틱부가 있고 센서부가 있고 하면 그 일부분 모듈만 바꾸면 새로운 설비로 갈 수 있도록 그런 컨셉으로 작년에 아마 발표했던 거 같은데 그런 컨셉으로 아까 말씀드렸던 EUV microscope인 SREM(Scanning Reflection EUV Microscope)이라고 하는 검사 설비.”

-검사는 뭐를 검사하는 겁니까?

“마스크를 검사하는 거죠. 그리고 노광 특성을 보는 Interference Lithography 간섭 현상을 이용해서 라인이랑 반복되는 콜 패턴을 만들 수 있거든요. 그 에밀레(EMiLE)라고 하는 그런 설비를 완성해서. 그건 모듈 형태죠. 올해 약 20개 회사에서 45매 이상의 PR 테스트를 무료로 해준 바가 있습니다. 그래서 국내 EUV PR 연구개발에 큰 도움을 주고 있고요. 또 하나는 펠리클의 Transmitter 투과도를 측정할 수 있는 그런 설비 하고 있고 또 반사 형태를 이용해서 full-field reflection EUV microscope라 해서 사실은 어제 듣고 이거 진짜 좋은 아이디어다. 거기서 또 핵심 중 하나는 지금 EUV 광원을 아까 말씀드렸던 에프에스티에서 만들었던 HIGH Harmonic 방식으로도 하이파워를 구현하고 있지만, 그보다 더 경쟁력 있는 거를 하는 방법이 진짜 파워를 높이는 방법도 있지만, 사실은 intensity라 하는 것은 단위 면적당 얼마만큼 집속하냐에 따라서 달라지거든요. 그래서 이솔에서는 그린라이트라 해서 친환경적인 광원이란 컨셉으로 어제 발표를 했는데요. 그 얘기는 뭐냐면 포커싱을 해서 그 파워를 크게 해서 넓은 거를 쓰는 거보다는 같은 파워를 유지해서 포커싱하면 파워를 높이는 효과를 가질 수 있다. 그래서 그거를 그렇게 조절할 수 있는 그런 설비로서 아까 말씀드렸던 FRME, full-field reflection EUV microscope라는 거를 개발했습니다.”

-돋보기에 태양 빛 이렇게 놓고.

“맞습니다. 저는 한 대표님 참 신기해요. 한 말씀만 드리면 그렇게. 제가 그렇게 설명드릴걸요. 그래서 그 설비는 보통은 다이렉팅 이미징하는 방식은 EUV는 렌즈를 써서 포커싱할 수가 없어요. 그래서 EUV는 포커싱할 수 있는 방법의 하나가 존 플레이트라고 해서 동심원을 그려서 거기서 집속하는 그런 방식이 지금 말씀 주셨던 그 돋보기에요. 근데 보통 돋보기를 어떻게 만드냐면 투과 형태로 만드는데 여기서는 반사 형태로 만들면 여러 개 광학계를 제거할 수 있다는 그런 아이디어에요. 그니까 아까 FREM이라고 하는 것은 그린라이트라는 광원의 새로운 개념. 두 번째는 반사 형태 존 플레이트. 이런 걸 보고 확장 가능성이 많이 있겠다는 그런 생각이 들었습니다.”

-에스앤에스텍도 학회에서 발표했습니까?

“그럼요. 에스앤에스텍은 우리나라 유일의 블랭크 마스크 회사죠. 그래서 EUV 블랭크 마스크의 연구개발은 오래전부터 사실 했습니다. 그래서 첫 번째 세대에 사용이 될. 그니까 마스크라는 원리가 반사하느냐 반사하지 않느냐를 이미지로 구현하는데 반사하느냐 안 하느냐를 하는 바이너리 마스크라고 보통 그러는데 1세대 마스크는 개발 완료했다고 말씀을 하셨고요.”

-그래요? 그건 학회에서 얘기한 거니까.

“그렇죠. 말씀 주신 거니까 그대로 말씀드린 거고. 그리고 그 차세대 마스크라고 하는 것은 반사를 안 하게 하는 그런 소재가 흡수체 층이라 하는 건데 흡수체 층에 EUV 흡수도를 높이는 High-k 마스크, 고흡수도 마스크라는 게 차세대 마스크의 종류 중 하나. 또 하나는 위상 변위 마스크라고 하는 두 가지가 있는데 그 두 가지도 현재 개발 중이고 High-k가 더 진도는 빨리 나가고 있다고 이야기를 했습니다.”

-EUV용 마스크는 일본 쪽에서.

“그럼요. 다 일본. 현재는 일본에서 다 수입해서 호야, 아사히글라스, 신에츠 이런 회사들이죠.”

-국내에서는 EUV 블랭크마스크 한다고 SKC 같은 대기업들도.

“그런 액티비티 있는 거로 있는데.”

-있는지는 잘 모르겠어요.

“저는 디테일한 걸 들은 바가 없어서.”

-저도 그런 걸 하겠다고만 얘기 들었고 밖에 나가서 어떤 얘기를 들은 건 별로 없는데 어쨌든 국내에서도 그런 노력이 이뤄지고 있군요.

“그렇죠.”

-저희가 12월 22일 날 행사하면 그쪽에 다양한 기업들이 나와서 발표하고 기술 상황에 관해서 얘기를 하시고 또 좌장도 교수님이 맡아주실 거기 때문에 그때. 오늘 다 풀어버리면 재미가 없으니까 그때 얘기를 좀 해주시는 거로 하고 지금 EUV-IUCC 한양대 행사에 와서 새로 들어온 회원사들 보니까 지금 이쪽 시장에 진입하려고 하는 여러 회사가 있어요.

“엄청 많습니다. 우주 망원경을 만들었던 그런 과학계 회사도 들어와 있고요.”

-저도 얘기 들었어요.

“노광 장비용은 아니더라도 검사 장비용은 충분히 가능성이 있다고 보고요. 그리고 일본 PR 회사에 원재료를 공급하는 그런 회사도 여기서 만났습니다. 그래서 EUV 쪽에도 우리가 할 수 있는 일은 많이 있을 수 있겠다는 그런 생각이 들었습니다.”

-궁금한 내용은 그때 저희 행사 온라인 오프라인 동시에 연계해서 하니까요. 한 번 들어 봐주시면 좋겠습니다. 교수님 오늘 여기까지 하시죠.

“네. 감사합니다. 그럼 12월달에 뵙죠.”

-고맙습니다.

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