반도체 EUV 기술 글로벌 생태계 컨퍼런스

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2022년 12월 8일 (목)

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설명

앞으로 2~3년 내에 있을 패권전쟁은 이후 10년 혹은 20년 글로벌 반도체 시장의 판도를 좌우할 것입니다. 패권전쟁의 최후 승자는 누가 될 지 아직은 알 수 없습니다. 하지만 전장(戰場)이 어디일지는 예측 가능합니다. 바로 EUV(극자외선)입니다. EUV 공정이 반도체 현장에 처음 도입된 건 2019년입니다. 그로부터 3년, 이제 EUV 는 글로벌 반도체 기업들의 생존을 위한 필수 공정으로 인식되고 있습니다.

 

EUV 패권전쟁의 서막은 2024년이 될 것입니다. 2019년 삼성전자가 맨 처음 EUV 공정을 도입한 이후 주요 반도체 기업들도 앞다퉈 EUV 공정 도입을 통해 초 미세 공정 경쟁에 돌입했습니다. SK하이닉스가 2021년 D램 공정에 도입한 데 이어 마이크론과 난야도 2024년께 EUV 공정 양산을 계획 중입니다. 세계 최대 반도체기업 인텔도 지난해 네덜란드 ASML과 최첨단 하이-NA EUV 장비 도입계약을 맺고 2024 년부터 본격적인 EUV 공정 양산에 들어갑니다. 대만 TSMC도 매년 EUV 공정을 확대하고 있습니다.

 

특히 2024년 ‘하이-NA EUV’ 도입은 본격적인 EUV 생태계를 여는 기폭제가 될 것입니다. 반도체 부품소재 산업 생태계도 급속도로 바뀔 것입니다. 이미 관련 업체들은 EUV 시대에 맞춰 발빠르게 준비하고 있습니다. 마스크를 먼지와 이물질로 부터 보호하는 EUV 전용 펠리클 개발은 국내에서도 활발히 진행 중입니다. 포토레지스트를 포함해 EUV에 적합한 각종 소재도 함께 개발되고 있습니다. 전자설계자동화 (EDA) 분야에서도 ‘하이-NA EUV에 맞게 광근접 보정(OPC:Optical Proximity Correction) 솔루션을 준비 중입니다.

 

전자부품 전문 미디어 디일렉은 지난 2019년 국내 최초로 EUV 기술 트렌드와 과제, 미래를 조망하는 ‘EUV 생태계 콘퍼런스’를 개최했고, 지난해에도 하이-NA기술등 진화한 EUV 생태계를 조망하는 기술 콘퍼런스를 열었습니다. 올해는 EUV 패권전쟁의 시대를 앞둔 주요 기업들의 대응전략과 기술개발을 알아보는 글로벌 테크 콘퍼런스’를 오는 12월 8일 개최합니다. 올해 콘퍼런스에는 삼성전자, SK하이닉스,동진쎄미켐, 이솔, 에스앤에스텍, 파크시스템즈 등 국내기업과 ASML, 미국 어플라이드머티어리얼즈(AMAT), 일본 도쿄일렉트론, 독일 칼자이스 등 내로라하는 글로벌 기업들이 참여합니다.

 

컨퍼런스는 안진호 한양대학교 신소재공학부 교수의 High-NA 시대를 대비한 EUV소재기술 개발 전략’ 이란 주제발표를 시작으로 진행됩니다. 삼성전자는 파운드리 분야에서 첨단공정 기술을 발표하고, SK하이닉스는 D램향 EUV 리소그래피 기술을 대해 각각 발표합니다. 또한, 어플라이드머티어리얼즈는 EUV Materials Engineering with Advanced Technology’란 주제로, 에스앤에스텍은 ‘EUV 블랭크마스크 및 펠리클 관련 개선 성과’에 대해 발표합니다. 파크시스템스는 ’EUV 마스크 리페어 장비’에 대해, 이솔은 ’EUV 소스(광원)에 따라 필요한 장비’를 중심으로 강연할 계획입니다.

 

디일렉의 ‘2022 반도체 EUV 생태계 글로벌 콘퍼런스’에서는 EUV 기술 동향과 최신 흐름을 한 눈에 파악할 수 있습니다. EUV로 시작될 글로벌 반도체 패권 전쟁에 대한 주요 기업의 준비태세와 대응전략도 확인할 수 있습니다. 본격적인 EUV 생태 계의 개화(開花)에 맞춰 방대한 통찰력을 제공하는 이번 콘퍼런스에 많은 관심 부탁드립니다.

 

 <오프라인 행사 개요 >

– 행사명 : 반도체 EUV 기술 글로벌 생태계 콘퍼런스
– 주최 : 한국반도체산업협회/연구조합
– 주관 : 전자부품 전문미디어 디일렉
– 일시 : 2022년 12월 8일(목) 09:30~17:40
– 장소 : 역삼동 소재 포스코타워 3층
– 참가비용 : 350,000원(부가세 별도, 점심식사 제공)
– 규모 : 선착순 120명

 <코로나19 및 행사안내 >

– 행사장 인원제한으로 조기 마감될 수 있습니다.
– 참석자분들은 오전 09:30시부터 사전 입장, 오후 17:40분 행사 종료 예정.
– 발표자료는 공개 허락한 연사에 한하여 파일본 형태로 제공합니다.
– 세미나비용 입금시 회사명 또는 등록자명으로 입금하여 주시기 바랍니다.
(우리은행 1005-803-563727 예금주 디일렉)
– 문의사항은 02-2658-4707 사업국 / 메일 : cwlee@thelec.kr 입니다.
– 주차장 협소로 인하여 개인별 주차는 지원하지 않습니다.

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– 세션 소개 –

2022년 12월 8일 (목)

시간주제자료다시보기
10:00~10:30

High-NA 시대를 대비한 EUV 소재기술 개발 전략

한양대학교   안진호  교수

10:30~11:00

DRAM 양산향 EUV Lithography 도전 과제

SK 하이닉스(주)   구선영  TL

11:00~11:30

EUV Materials Engineering with Advanced Technology

어플라이드 머티어리얼즈코리아(주)   강상길  이사

11:30~11:50

Coffee Break

11:50~12:20

Recent Progress in developing EUV Blank mask & pellicle at S&S TECH

(주)에스앤에스텍   승병훈  전무

12:20~12:50

부쉬 EUV Pre-vacuum system 탄소중립·녹색성장

(주)Busch Korea   최윤진  대표

12:50~14:00

LUNCH

14:00~ 14:30

삼성 파운드리 공정 최신 기술

삼성전자(주)   박병재  수석

14:30~15:00

EUV to High-NA

칼자이스(주)   매튜 윌슨  전무

15:00~15:30

EUV HVM(대량생산) and Technology Extension

ASML KOREA(유)   이명규  이사

15:30~15:40

Coffee Break

15:40~16:10

EUV 장비 개발의 과제와 도전

(주)이솔   김병국  대표

16:10~16:40

Challenges and development of EUV Mask Defect Analysis and Repair Technology

파크시스템즈(주)   조상준  상무

16:40~17:10

EUV Patterning Process Development

도쿄일렉트론코리아(주)   장경호  Fellow

17:10~17:40

CAR Type EUV Resist 개발 현황과 과제

(주)동진쎄미켐   김정식  부장

– 연사 소개 –

프로필소개

안진호 | 한양대학교 신소재공학과 교수

EUV 마스크, EUV 펠리클, EUV 검사기술에 연구를 집중하고 있다. 한국연구재단 나노융합단장, 한양대학교 산학협력단장, 국가과학기술심의회 전문위원, 한국반도체연구조합 전문위원을 역임하였으며, 현재는 소재부품장비특별위원회 위원, 국가연구협의체 극자외선노광기술산학렵센터(EUV-IUCC) 센터장, 나노인프라협의체 이사, 나노코리아 심포지움 조직위원장, 한양대학교 나노컨버전스리더양성 BK사업단장 등을 맡고 있다.

구선영 | SK하이닉스(주) TL

2002년 한양대학교 화학, 2004년 동대학원 물리화학 석사학위를 취득했습니다. 2004년 SK하이닉스 입사, 2007년 ASML사 EUV Alpha Tool 향 EUV Lithography 개발을 시작으로 EUV 공정 연구 개발 직무를 15년간 수행하고 있습니다. SK하이닉스에서 도입한 1st EUV Scanner 셋업을 포함하여, 자사 EUV Scanner 양산 시스템 구축 및 안정화 업무를 리딩하고 있습니다. 2009,2012년 EUV Symposium, 2010년 Semicon Korea, 2011,2017년 SPIE Advanced Lithography 를 통해 자사 EUV Lithography 개발과 장비 기술에 대한 Trend를 다수 공유 했습니다.

강상길 | 어플라이드 머티어리얼즈코리아(주) 이사

- 포항공과 대학교 화학 석사
- 2006~2018 SK Hynix 연구소 연구원
- 2018~현재 어플라이드 머티어리얼즈 코리아 팀장

승병훈 | (주)에스앤에스텍 전무

현재 S&STECH에서 EUV Pellicle, Blank Mask 개발을 담당하고 있습니다. POSTECH에서 학사,석사 및 Soft X-ray Reflectivity로 박사 공부를 했습니다. 2006년부터 삼성전자 반도체 연구소 Mask개발팀에서 16년간 ArF/EUV Patterinng 공정 및 Patterning 소재 개발을 했으며, 이러한 경험을 바탕으로 2021년부터 S&STECH에서 EUV Pellicle/Blank mask 개발 진행 중입니다.

최윤진 | (주)Busch Korea 대표이사

1994년 ~1999년 : 오스템(구:윤영) Seat Mechanism(대우자동차 시트)
- 연구, 제조, 품질, 구매 서비스 순환보직
1999년 12월 ~ 2002년 4월 : 독일외투법인 Robert Bosch Korea
- ABS/TCS 제동장치 생산과장
2002년 4월 ~ 2009년 4월 : 미국 외투법인 Cymer Korea 생산부장
(현 ASML Korea로 합병) ArF/KrF Excimer Laser 제조 총괄
2010년 8월 ~ 2015년 12월 : 독일외투법인 Busch Korea 공장장
- 시스템제조, 기술개발, 서비스 총괄
2016년 1월 ~ 현재 : Busch Korea 대표이사

박병재 | 삼성전자(주) 수석연구원

- 12년 포항공대 물리학 박사 졸업
- 12년 삼성전자 S.LSI 사업부 공정개발팀 책임연구원
- 20년 Stanford 대학 Visiting Scholar
- 현재 삼성전자 파운드리 사업부 PA1팀 수석연구원

매튜 윌슨 | 칼자이스(주) 전무

- Degrees
Diploma, Electrical & Electronic Engineering, University of Ulster, UK
Diploma of Engineering Information Systems, Fachhochschule Augsburg, Germany
Master of Engineering Electronic Systems, University of Ulster, UK
- Development
since 07/2019 Head of Research Microscopy Solutions Korea
since 10/2017 Head of Semiconductor Manufacturing Korea
from 04/2015 Head of Semiconductor Mask Solutions Korea
from 05/2013 Head of Service Semiconductor Mask Solutions Korea

이명규 | ASML KOREA(유) 이사

“Myoung-Kuy Lee(이명규)”, has been Business development field marketing manager at ASML Korea since July, 2015 with responsibility of mid/longer term business development.
Prior to joining ASML, Lee was Regional marketing director for ONTO(before Nanometrics) for 2.5 years, before that had worked at Samsung semiconductor litho area. for 18 years.
Lee studied Mechanical engineering at Inha University, Incheon, Korea.

김병국 | (주)이솔 대표이사

- 주식회사 이솔 대표이사 / CEO
- 삼성전자 Mask 개발팀 PL
- (日) 반도체 첨단 테크놀로지 파견 연구원
- (美) 벨 연구소 파견 연구원
- (美) Indiana Kelley Business School, MBA
- 연세대학교 화학과 BS, MS

조상준 | 파크시스템즈(주) 상무

조상준 박사(Park Systems Corp)는 58명의 과학자들(국내 23명, 해외 25명)과 함께 연구개발첨단응용센터 센터장 겸 영업총괄 부사장을 맡고 있다. 그는 지난 20년 동안 나노계측, 나노바이오 그리고 주사탐침현미경(SPM)의 응용기술 분야에 기여를 해왔습니다. 현재까지 수많은 국책과제 책임자를 맡아 성공적으로 수행하여 국가연구개발 100선 중 최우수 과제로 선정되고 그 공로로 2021년에는 과학기술포장을 수상하기도 했습니다. 현재 반도체 산업에서 새로운 SPM 애플리케이션을 개발하기 위한 대형 과제를 책임지고 있습니다. 50건 이상의 논문, 100건 이상의 학술 발표 및 100건 이상의 초청 강연을 수행해왔으며 현재 국제표준기구(ISO) 주사탐침현미경분과의 국제위원장 및 한국장비협회 운영위원장을 맡아 이 분야의 국가발전을 위해 노력을 하고 있습니다.

장경호 | 도쿄일렉트론코리아(주) Fellow

- Educational Information
1997 ~ 1999 M.S in Chemistry at Hanyang University
- Personal Core Competency
Process Expert for Plasma patterning
Analyst of Dry Etch Equipment characterization and progressing trend
CO2 Reduction Plan and Processing (ESG)
- Career Information
I have been worked for 22 years in SEC Semiconductor R&D Center (1999~2021).
Attendee of SRAM products (Low power, High speed) development
Attendee of Flash product (Planar) development
DRAM product development (90~10nm) & transfer to High volume manufacturing and
especially, attended the plan of CTF (Charge trap Flash) from the beginning.
Participated in 3D DRAM development and CO2 reduction plan until recently.

김정식 | (주)동진쎄미켐 부장

- 2006년 서강대학교 화학과 유기화학 석사 졸업
- 2006년 (주)동진쎄미켐 반도체재료사업본부 선행기술개발팀 입사
- BARC, SOC, PAG, EUV PR 개발
- 2013년 ~ 2015년 벨기에 imec 파견(ArF immersion PR 평가 및 defectivity 개선)
- 2016년 ~ 2019년 : PR 팀(ArF Dry & Immersion PR 개발)
- 2019 ~ 현재(EUV PR 개발)