2021 반도체 EUV 생태계 빅 트렌드 릴레이 콘퍼런스

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2021년 12월 22일 (수)

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설명

반도체는 나노 단위의 회로 선폭을 좁히며 발전해 왔습니다. 초미세 공정을 구현하려면 회로에 패턴을 그리는 노광 공정 기술이 개선되어야 합니다. 이를 구현하기 위해선 노광장비 성능이 높아져야 합니다.

 

노광장비의 성능은 더 미세하게 회로를 그릴 수 있는 해상력(resolution)에 달려 있습니다. 해상력을 높이려면 노광원 파장(λ), 공정변수(K1), 렌즈 수차(NA) 가운데 한 가지 이상을 개선해야 합니다. EUV는 이 가운데 노광원 파장을 선택한 경우입니다.

 

그간 업계에서 많이 사용하던 노광 기술은 빛의 파장이 193나노미터(㎚)인 불화아르곤(ArF)입니다. 이후 렌즈에 물을 넣어 빛 굴절률을 높이고 파장을 줄인 이머전 ArF로 개선됐습니다. EUV는 훨씬 더 짧은 13.5㎚의 파장을 사용합니다. 덕분에 7나노 이하 공정이 보다 원활하게 이뤄질 수 있게 됐습니다. 시스템 반도체 위주에서 점차 D램과 같은 메모리 반도체로 활용폭도 넓어지고 있습니다. 초기 도입 단계를 벗어나 본격적으로 EUV가 활용될 환경이 만들어지고 있는 셈입니다.

 

생태계도 발맞춰 준비에 나서고 있습니다. 마스크를 먼지와 이물질로부터 보호하는 펠리클(Pelicle)이 대표적입니다. 또 이 펠리클을 EUV 노광장비 내에서 자동으로 탈부착하는 장비, 펠리클과 지지대에 이물질이 붙어는지 검사하는 장비 등이 새로 도입될 계획입니다. 포토레지스트는 물론 각종 소재도 EUV에 맞게 조정되어야 합니다. 전자설계자동화(EDA) 분야에서도 현재 0.33인 렌즈 수차가 0.5 이상으로 높아진 고해상도 EUV 시대에 발맞춰 새로운 광근접보정(OPC:Optical Proximity Correction) 솔루션을 준비 중입니다.

 

전자부품 전문 미디어 디일렉은 소재, 부품, 장비 등 EUV 생태계 전반에 걸친 최신 기술 및 시장 동향을 소개하는 글로벌 테크 콘퍼런스를 오는 12월 22일 개최합니다. SK하이닉스는 EUV를 메모리 반도체에 활용 접목할 때 발생하는 도전과제를, ASML은 EUV 대량 양산 및 High-NA 기술을 조명합니다. 오로스테크놀로지, 에프에스티, 이솔, 에스앤에스텍, 머크, 파크시스템스 등 EUV 생태계에 속한 산업계 전문가를 초빙해 현재의 기술 트렌드, 과제와 미래를 조망합니다.

 

본격적인 EUV 기술 확대 시기에 발맞춰 방대한 통찰력을 제공하는 이번 컨퍼런스에 많은 관심 부탁 드립니다.

<오프라인 행사 개요 >

– 행사명 : 2021 반도체 EUV 생태계 빅 트렌드 릴레이 컨퍼런스
– 주최 : 한국반도체산업협회
– 주관 : 전자부품 전문미디어 디일렉(www.thelec.kr)
– 후원 : 주성엔지니어링, 에프에스티, KLA, 오로스테크놀로지, 지멘스EDA, 에스앤에스텍, EUV-IUCC
– 일시 : 2021년 12월 22일(수) 09:30~17:00
– 장소 : 포스코타워 역삼 이벤트홀(3층)
– 등록비용 : 33만원(부가세 포함)
– 규모 : 99명
* 발표 책자, 점심식사 및 음료수 제공

<코로나19 안내 >

– 행사장 인원제한으로 조기 마감될 수 있습니다.
– 단계적 일상회복 전환에 따른 사회적 거리두기 방침에 따라 백신접종완료자만 참석이 가능합니다.
– 현장에서 모바일 COOV 애플리케이션으로 예방접종확인카드, 백신접종증명서를 반드시 제시하셔야 합니다.

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– 세션 소개 –

2021년 12월 22일 (수)

시간주제자료다시보기
10:30~11:00

EUV 기술 생태계: 어디까지 왔나?

한양대학교, 안진호 교수

 

11:00~11:30

DRAM 양산에서 EUV Lithography 현황과 과제

SK하이닉스, 구선영 PL

11:30~12:00

EUV system for securing HVM and moving forward High-NA extension

ASML, 이성우 이사

12:00~12:30

EUV Process의 특징과 이에 따른 Overlay tool의 개발 방향에 대한 고찰

오로스테크놀로지, 한상준 부사장

12:30~13:30

Thermo-mechanically specialized EUV Pellicle Development and HVM Preparation Status by FST

에프에스티, 최재혁 부사장

14:00~14:30

Actinic tools using EUV source for EUV

이솔, 이동근 부사장

14:30~15:00

EUV pellicle 및 blankmask 개발 현황

에스앤에스텍, 승병훈 전무

15:00~15:30

커피브레이크

15:30~16:00

EUV 기술에 필요한 소재 솔루션의 진화

Merck, Yi Cao Head of Patterning R&D

16:00~16:30

Readiness of Vacuum pump & abatement technology for future EUV

에드워드코리아, 문병훈 상무

16:30~17:00

Prospects of EUV Mask Defect Analysis and Repair Application Using Scanning Probe Microscopy

파크시스템스, 조상준 상무

– 연사 소개 –

프로필소개

안진호 | 한양대학교 교수

EUV 마스크, EUV 펠리클, EUV 검사기술에 연구를 집중하고 있다. 한국연구재단 나노융합단장, 한양대학교 산학협력단장, 국가과학기술심의회 전문위원, 한국반도체연구조합 전문위원을 역임하였으며, 현재는 소재부품장비특별위원회 위원, 국가연구협의체 극자외선노광기술산학렵센터(EUV-IUCC) 센터장, 나노인프라협의체 이사, 나노코리아 심포지움 조직위원장, 한양대학교 나노컨버전스리더양성 BK사업단장 등을 맡고 있다.

구선영 | SK하이닉스 PL

2002년 한양대학교 화학, 2004년 동대학원 물리화학 석사학위를 취득했습니다.
2004년 SK하이닉스 입사, 2007년 ASML사 EUV Alpha Tool 향 EUV Lithography 개발을 시작으로 EUV 공정 연구 개발 직무를 15년간 수행하고 있습니다.
SK하이닉스에서 도입한 1st EUV Scanner 셋업을 포함하여, 자사 EUV Scanner 양산 시스템 구축 및 안정화 업무를 리딩하고 있습니다.
2009,2012년 EUV Symposium, 2010년 Semicon Korea, 2011,2017년 SPIE Advanced Lithography 를 통해 자사 EUV Lithography 개발과 장비 기술에 대한 Trend를 다수 공유 했습니다.

이성우 | ASML 이사

“Sung Woo Lee”, Ph.D. has been Marketing at ASML for 7 years with responsibility of Samsung Memory and Foundry. Prior to joining ASML, Dr. Lee was the senior staff engineer at Synopsys for 3 years and Samsung R&D center for 13 years. During his 13 years in Samsung, Dr. Lee spent time doing responsibility of OPC, Photo lithography, and mask.
Dr. Lee received Ph.D degree in Physics from KAIST.

한상준 | 오로스테크놀로지 부사장

1995년 현대전자 반도체 생산본부 공정기술부 근무를 시작으로 SK 하이닉스 메모리 반도체 Photo 공정 분야에서 25년간 근무하였으며, 주요 분야로서 노광장치 및 Overlay 장치 성능 평가, Photo System 개발, Mask Frame 및 PR 평가 등 메모리 반도체 개발을 위한 장치 및 재료 선정 분야 및 소자 개발을 담당하였다.
현재 2020년부터 오로스테크놀로지 CTO로서 MI 장비 기술개발을 총괄하고 있다.

최재혁 | 에프에스티 부사장

최재혁 부사장은 현재 FST 에서 EUV Pellicle 개발을 총괄하고 있습니다. 미국 UC San Diego 재료공학과에서 박사학위 취득 후 2005년부터 삼성 전자 반도체 연구소 마스크개발팀에서 마스크 및 펠리클 소재 및 관련 장비 개발을 해 왔으며,2016년부터는 칼 자이스 반도체 사업부 마케팅 총괄을, 2018년 7월부터는 케이엘에이 측정 및 Overlay 부서 기술 마케팅 총괄 Technical Director 를 역임하였습니다. 2020년 10월부터는 에프에스티에서 EUVP 및 Optical pellicle 개발을 담당하고 있습니다.

이동근 | 이솔 부사장

주식회사 이솔의 기술개발을 총괄(CTO 역할 수행)
KAIST(한국과학기술원)에서 EUV 광원 주제로 박사 학위를 받았으며, 삼성전자 반도체 연구소에서 16년간 EUV 리소그라피 및 EUV마스크 개발을 수행하였으며, EUV리소그라피의 발명자인 일본의 기노시타 교수님과 2년간 공동연구를 수행하였으며, 이러한 축적된 경함과 기술을 바탕으로 주식회사 이솔에서 EUV 광을 이용한 반도체 설비를 개발 진행중입니다.

승병훈 | 에스앤에스텍 전무

승병훈 전무는 현재 S&STECH에서 EUV Pellicle, Blank Mask 개발을 담당하고 있습니다. POSTECH에서 학사,석사 및 Soft X-ray Reflectivity로 박사 공부를 했습니다. 2006년부터 삼성전자 반도체 연구소 Mask개발팀에서 16년간 ArF/EUV Patterinng 공정 및 Patterning 소재 개발을 했으며, 이러한 경험을 바탕으로 2021년부터 S&STECH에서 EUV Pellicle/Blank mask 개발 진행 중입니다.

Yi Cao | Merck, Head of Patterning R&D

A technologist with extensive experience in lithography materials and processes, Yi Cao spent over 15 years in R&D and 5 years in a marketing role. As a researcher, he has been directly involved in development of advanced photoresists, antireflective coatings, chemical shrink materials, double patterning technology, and DSA materials. Yi Cao worked at IMEC in Belgium for three years as an assignee from Merck, leading multiple collaborative projects. Before returning to R&D in early 2021, he led a team of product managers to manage Merck’s lithography materials portfolio including commercial products, new product development, and product roadmaps.

문병훈 | 에드워드 상무

2000년 삼성전자 양산 기획팀의 Sub-equipment 기술 기획 업무를 시작으로 국내외 주요 300mm FAB의 Pump/Abatement기술 기획 업무를 담당하였으며, 연구소 라인 EUV 도입 초기에는 EUV 특화된 Pump & Abatement System의 초기 Concept 기획을 총괄 하였다.
2015년 에드워드 코리아로 입사하여 Application Manager 및 Product Manager 경력을 거쳐, 현재 EUV 관련 제품군을 포함한 국내 Semiconductor 및 Display BIZ 전체 제품군의 Application 및 Product Management의 총괄 Director로 활동 하고 있다.

조상준 | 파크시스템스 상무

조상준 박사(Park Systems Corp)는 58명의 과학자들(국내 23명, 해외 25명)과 함께 연구개발첨단응용센터 센터장 겸 영업총괄 부사장을 맡고 있다. 그는 지난 20년 동안 나노계측, 나노바이오 그리고 주사탐침현미경(SPM)의 응용기술 분야에 기여를 해왔습니다. 현재까지 수많은 국책과제 책임자를 맡아 성공적으로 수행하여 국가연구개발 100선 중 최우수 과제로 선정되고 그 공로로 2021년에는 과학기술포장을 수상하기도 했습니다. 현재 반도체 산업에서 새로운 SPM 애플리케이션을 개발하기 위한 대형 과제를 책임지고 있습니다. 50건 이상의 논문, 100건 이상의 학술 발표 및 100건 이상의 초청 강연을 수행해왔으며 현재 국제표준기구(ISO) 주사탐침현미경분과의 국제위원장 및 한국장비협회 운영위원장을 맡아 이 분야의 국가발전을 위해 노력을 하고 있습니다.